設(shè)備簡介
專為科研院所設(shè)計開發(fā)的多功能PVD鍍膜設(shè)備，可選配陰極電弧、磁控濺射、離子源、電子槍蒸發(fā)、燈絲、偏壓等多種鍍膜技術(shù)，結(jié)合智能擋板和獨立公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，應(yīng)用靈活，非常適用于科研人員靈活的開發(fā)各種涂層。
設(shè)備參數(shù)
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真空室尺寸 |
Ф400×H450 |
Ф800×H800 |
Ф1000×H1200 |
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真空室結(jié)構(gòu) |
立式前開門結(jié)構(gòu)、后置抽氣系統(tǒng) |
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電源類型 |
脈沖偏壓電源、直流磁控電源、中頻磁電源；多弧直流電源；離子源電源（可根據(jù)客戶要求實配不同電源） |
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真空技術(shù)指標 |
極限壓強：5.0×10-5Pa；抽速：從大氣抽至5.0X10-4Pa，30分鐘；壓升率：≤0.5Pa/h |
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磁控靶類型 |
陰極電弧，平面磁控靶，圓柱形磁控靶，非平衡磁控靶（可根據(jù)客戶要求實配） |
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蒸發(fā)類型 |
電子束蒸發(fā)源、電阻蒸發(fā)源（可根據(jù)客戶要求實配） |
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控制方式 |
PLC+工控機+觸摸屏操作 |
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備注 |
具體配置、大小均可根據(jù)客戶的要求進行設(shè)計 |
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電話：13418648576
郵箱：cmw73@163.com
地址：遼寧沈陽市沈北新區(qū)七星大街69-97號
