設(shè)備簡(jiǎn)介
MIC陰極電弧離子涂層設(shè)備是我公司經(jīng)過(guò)多年研發(fā)與完善，并有較高市場(chǎng)占用率的一款鍍膜設(shè)備。設(shè)備采用新型大面積陰極電弧技術(shù)、IET刻蝕、偏壓等鍍膜技術(shù)，配備可移動(dòng)式工件轉(zhuǎn)架，適用于在各種刀具和模具以及零部件表面沉積高性能的耐磨、防腐、抗氧化等硬質(zhì)涂層。
設(shè)備特點(diǎn)
- 大面積弧源技術(shù)具有弧斑移動(dòng)速度快、離化率高、等離子體能量大
- IET刻蝕輔助技術(shù)提高結(jié)合力、涂層致密細(xì)膩
- 沉積速率快、靶材利用率高
- 單層和多層復(fù)合
- 合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、成熟的工藝參數(shù)
- 穩(wěn)定的控制系統(tǒng)、遠(yuǎn)程操作與監(jiān)控
設(shè)備參數(shù)
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設(shè)備型號(hào) |
MIC-900 |
MIC-1200 |
MIC-1800 |
MIC-2200 |
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有效涂層區(qū)域 |
∅700×600 |
∅700×900 |
∅700×1500 |
∅700×1800 |
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可選配置 |
大面積陰極電弧、IET刻蝕、偏壓 |
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涂層工藝時(shí)間 |
4-6h |
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涂層類別 |
TiN、CrN、TiCN、AlTiN、AlCrN、AlTiSiN、AlCrSiN等 |
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系統(tǒng)最高溫度 |
550℃ |
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沉積溫度 |
＜500℃ |
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最大載荷重量 |
1000Kg/2000Kg |
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涂層性能參數(shù)
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涂層名稱 |
涂層厚度(μm) |
涂層硬度 (HV) |
工作溫度 （℃） |
摩擦系數(shù) |
涂層顏色 |
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TiN |
2-6 |
2500 |
600 |
0.2 |
金黃色 |
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CrN |
2-10 |
2500 |
600 |
0.2 |
銀灰色 |
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TiCN |
2-4 |
2800 |
500 |
0.2 |
灰黑色 |
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AlTiN |
2-5 |
3300 |
900 |
0.5 |
藍(lán)黑色 |
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TiAlN |
2-6 |
3300 |
900 |
0.4 |
紫黑色 |
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AlCrN |
2-5 |
3200 |
1000 |
0.35 |
黑灰色 |
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AlTiSiN |
2-4 |
3300 |
1100 |
0.3 |
土黃色 |
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